ASML在近日舉辦的2024年投資者日會議上，更新了長期戰(zhàn)略以及全球市場和技術(shù)趨勢分析，確認(rèn)其到2030年的年收入將達(dá)到約440億至600億歐元(約合人民幣3355億元至4575億元)，毛利率約為56％至60％。
ASML總裁兼首席執(zhí)行官傅恪禮(Christophe Fouquet)預(yù)計，在下一個十年，ASML有能力將EUV極紫外光刻技術(shù)推向更高水平，充分參與和抓住AI機(jī)遇，實(shí)現(xiàn)顯著的營收和盈利增長。
ASML認(rèn)為，EUV光刻機(jī)的銷售在2030年前將有巨大的上升空間。
EUV技術(shù)的可擴(kuò)展性具有持續(xù)的成本效益，有望使客戶進(jìn)一步從多重曝光，轉(zhuǎn)向使用EUV的單次曝光工藝，包括低數(shù)值孔徑(0.33NA)和高數(shù)值孔徑(0.55NA)，以支持先進(jìn)邏輯邏輯芯片、DRAM芯片的發(fā)展。
ASML預(yù)測，EUV光刻機(jī)需求的年復(fù)合增長率將達(dá)到兩位數(shù)(即超過10％)。 
